带球形端子的IC芯片的装置以及球形断开的原因
我们都热爱电子产品,几乎崇拜它。电话,计算机等设备非常复杂,并且由于无需花费大量金钱,这要归功于自动化和CAD,但我们仍然认为它很昂贵,而且我们希望便宜一些,甚至不知道它包含多少种技术。微电子学。我们在购买处理器,电话,视频卡和其他设备时需要支付的此类隐藏技术之一-UBM(凸点金属化)是芯片上用于安装球引线的平台的金属化。微电子学的发展导致IC芯片和PCB上组件集成密度的增加。如果在晶体上没有太多结论,从一个到几百个甚至更多,则可以将晶体设计用于导线焊接。有很多示例:闪存,RAM芯片,声音芯片等等。在这里,读者可以回忆起某些微电路盒的外观,并说这些盒已焊接到球形端子上,他说的没错。仅在这些情况下,才将晶体粘合并用导线焊接。接下来,我们将讨论位于晶体和主体之间的球形引线。图1个Hunix RAM芯片。晶体拆包(白线)和
晶体本身(黑色矩形)被示意性地示出,尽管表壳本身被焊接在球上。如果潜在晶体的引脚数很大(从600到4000多个),则显影剂会立即为球形引脚开发晶体,例如CPU和GPU之类的晶体。是的,以如此众多的结论物理解压电线是一个漫长的顺序过程,但是我通常对机器编程保持沉默。图2 AMD斐济图形芯片。在IC芯片上,而不是在身体上,有4000多个焊球。球形铅是焊料球(可以包含铅也可以不包含铅),可同时执行以下三种功能:1.将晶体保持在PCB或硅中介层(如AMD Fiji)上2.消除热量3.形成晶体的电连接外部环境如果将晶体用于球形引线,则铜接触垫会以矩阵形式在晶体的整个表面上形成,并且基本上是晶体拓扑结构的延续。然后,在必要时在铜上施加钝化保护层,而不在球所处的位置施加钝化保护层。铜的开孔区域覆盖有UBM层,然后准备施加球。UBM层的一部分位于钝化层上,从而完全覆盖铜并在该位置的周边周围形成突起。图 球下结论为3 KP。黄色-钝化铜,灰色-UBM涂层。如果将晶体用于焊丝焊接,则用于焊接的接触垫(KP)为矩形,其主要涂层为铝,并且位于晶体的周围。图尺寸为100 x 100微米量级的4 KP焊丝也不可能将焊球直接连接到这种KP:焊锡不能焊到铝垫上。为此,还应使用UBM技术焊接球。因此,UBM是焊球和芯片上接触垫金属之间的层。它的任务是与接触垫粘合,扩散保护和焊料的润湿性。使用UBM来创建具有球形接头的结构,它还允许您在用于拼接的IC和IC上创建球的结构。图5 UBM的位置UBM 接口必须确保满足以下条件:1.与接触垫的铝和芯片上的钝化层建立可靠的连接。重要的是钝化层本身必须没有小孔,因为在创建导电UBM层时,这可能导致短路。2.接触垫的电阻低。为了满足该要求,在涂覆第一UBM层之前,从CP的表面去除氧化铝。3.为焊球材料和KP材料的扩散提供屏障。4. UBM的外层必须是可润湿的,以用于焊料。5.防止在开放表面上形成氧化层。6.为晶体提供尽可能少的电压。UBM至少是3个金属薄膜蚀刻层。1.对CP的粘附层。它用于在KP的金属和IC的钝化层之间形成键,并防止KP和焊球之间的扩散。常用的材料有:铬(Cr),钛(Ti),钛/钨(Ti / W),镍(Ni),钼钼。该层的厚度为约0.15-0.2μm。2.浸湿的焊料层。用焊球创建焊点。所使用的金属为:铜(Cu),镍(Ni),钯(Pd)。通常的层厚度约为1-5μm。3.防氧化保护层。为此,使用金(Au)。厚度〜0.05-0.1μm。可以制造UBM层的许多组合,例如Ti / Cu / Au,Ti / Cu,Ti / Cu / Ni,TiW / Cu / Au,Cr / Cu / Au,Ni / Au,Ti / Ni / Pd,Mo / Pd 。但是,不同的UBM结构具有不同的属性和不同的可靠性。例如,Ti / Cu / Ni比Ti / Cu具有更好的附着力。 UBM的材料组合会影响到晶体部位和焊球的连接可靠性。 UBM必须与焊球材料兼容。 UBM的外层与含铅焊料配合得很好,可能不适合无铅焊料。例如,由于纯锡与铜Sn-Cu形成金属间化合物,因此Cu与铅焊料的焊接效果好,无铅焊料的焊接效果差。如果铜被焊料完全吸收,则触点会断开。让我们看一下微电路示例的外观,该微电路最初是为焊丝开发的,然后最终确定为球输出的。而且,晶体的拓扑对于球没有改变。确实,如果水晶有效,为什么还要攀登?这是WL1271L芯片-德州仪器(TI)的Wi-Fi和蓝牙芯片。在照片中,它的一部分:图 6晶体WL1271L的片段。在这里,这一时刻引起了人们的注意,即有可能在不依靠改变晶体拓扑的情况下,通过在晶体顶部形成层来使其适应球形引线。这就需要在带有晶体的板上进行额外的操作,即形成球的操作,但这在节省板上空间方面具有优势,因为对于200-250μm的球,它不需要转接板,也就是说,您可以将晶体直接安装在板上。据我所知,尽管在俄罗斯有适合的微电路,但他们在俄罗斯没有这样做,但是有些进口的IC可以这样做。以良好的方式,这样的技术应该降低最终产品的成本。对于军事而言,由于可靠性的要求,它可能不适合使用,但对于家用而言,价格却可以承受。现在,让我们看一下专门为球形端子设计的IC的示例。我们拿起一个视频卡,将晶体破裂,清洗,然后用过硫酸铵和硫酸铜的混合物腌制。图7蚀刻前(左)和蚀刻后(右)的接触垫。蚀刻锡时(球必须是无铅的),锡会取代硫酸铜中的铜,然后以过硫酸铵的形式吸收这种金属形式的铜。因此,清除了该部位的锡。在显微镜下,当焦点发生变化时,去除锡后就可以看到凹陷,在照片中看不到凹陷。从接触垫散开的铜线没有被蚀刻,因为它们受到钝化保护。接触垫下面的铜本身也保持不变,这是因为UBM的上层既不与过硫酸铵也不与硫酸盐反应,从而使其自身暴露出来,并且通过这种特性,可以推测出它是哪种金属。现在关于球结论的问题。进行接线时,晶体会通过铝/金线连接到外壳,即使变形,由于线是塑料的,连接仍会保留。但是球形引线坚硬,略微塑性,不会拉伸,并且在某些情况下会滞后于接触垫(因为在此位置,金属厚度最小=>负载更大)。破坏/分层会导致电阻增加和断路。图 8 UBM层和球的位置(顶视图)。UBM位于球形端子的正下方(如果您从球形侧面看晶体)。当球彼此重叠放置时,球会在UBM上施加电压,并可能与UBM的金属层或UBM本身断开连接。球的某些断开连接不会影响设备的运行,例如,如果有大量并联的电源球,则断开其中之一不会导致设备故障。但是,如果断开连接发生在数据流经的线路上,则此问题称为“芯片刀片”,并导致设备故障。因此,它掉落/掉落的球不是在基板和基板之间(尽管可以),而是在晶体和基板之间。由于晶体的无数次加热/冷却循环,焊球与UBM的焊接点破坏的可能性很高。视频卡会迅速升温并达到高温,从而导致机械应力。因此,法治是正确的,冷却和系统越“冷淡”越好,持续时间越长。对于Intel处理器,临界温度最高为65 C,此后才开始防止过热的保护,而对于视频卡,温度可以达到80-90度。根据Internet,您可以将视频卡粘贴在掉下的水晶上!(然后没有其他问题,然后尖叫一切都已修复且作者是错误的),然后在烤箱中预热,视频卡将再次工作。您无需执行此操作,因为您可以成对毒害塑料/纺织品,这将无法修复视频卡。在一段时间内,可以恢复可操作性,因为由于热膨胀,氧化物层可能会穿透,但是很长一段时间,直到腐蚀/热膨胀过程再次断开接触,然后这种情况才会发生。对视频卡进行预热的唯一原因是进行诊断,以准确确定刀片。 Source: https://habr.com/ru/post/zh-CN389253/
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